摩爾定律的救星，先進晶片製程技術來助攻

創辦人方可成博士突破現有半導體晶片製程，讓晶片的線寬可以從幾奈米到1奈米，甚至於小到0.1奈米也就是皮米級的晶片製程。0.1奈米的線寬大約就是1個原子的徑寬，相當於將電子線路刻畫在一顆原子的大小，這無疑是一項巨大的創新發明！

擺脫光刻機束縛，創新製程前所未見

我們使用的是電子束與X光照射，雖然同樣是微影技術，但我們並不使用光刻膠，所以沒有樹脂類材料具有分子巨大的問題，無法做微細雕刻。我們是透過電子束、X光還原感光層中的感光粒子，成為原子排列現象，就能輕易達到皮米級的電子線路。

此外，本技術的電子線路製程技術一樣可以應用在電晶體上，做出線路更細微的IC圖案，且過程中無需使用昂貴的光刻機及蝕刻機，就能實現奈米／皮米線路等級的晶片，大大降低生產成本，又可大量生產，更具有商業實施潛力。

恭賀 朗色林科技

榮獲第22屆金峰獎之

【傑出創業楷模】【傑出創新研發】

雙項大獎

朗色林科技方可成董事長獲獎不斷，繼金炬獎之後，方董事長近日榮獲第二十二屆金峰獎「傑出創業楷模」大獎，所研發的「皮米級電子晶片」與「人造合成冰種翡翠」獲得「傑出創新研發」大獎。方董事長的卓越經營理念，更被鼎力推薦擔任「榮譽指導委員」。

「金峰獎」是由中華民國傑出企業管理人協會(OEMA)所主辦的選拔活動，旨在推動並激勵企業之創新及改革、保持高度競爭力。OEMA聘多位工商學術界專業人士組成評審團，獲獎之企業，並透過媒體廣為報導，讓社會大眾均能認識各傑出企業，更盼以此殊榮激勵國內產業，凝聚企業領導人共同發展經濟的高度向心力，立足台灣，掌握世界經濟脈動。

方董事長突破現有半導體晶片的奈米製程，發明無需使用光刻機及蝕刻機的「皮米級電子晶片」製程。本技術不只適用於7奈米以下的先進製程，對於7奈米以上的成熟製程也適用。由於本技術是利用化學製程，同一個製程從28奈米到1奈米、甚至小於1奈米、皮米級都能製造。此外，設備部分都可以不再使用光刻機、蝕刻機，甚至於可拋棄光刻膠，將整個原本複雜的半導體晶片製程變成簡易製程，不僅製造成本能大幅下降，晶片的效率與良率又可大大提升。

「人造合成冰種翡翠」是世界唯一可以量產的寶石級人造合成翡翠，方董事長成功挑戰以科技達到高檔天然冰種翡翠等級的合成技術，解決天然翡翠礦石已瀕臨絕礦之窘境!

方董事長關心人類福祉，不斷貢獻智慧以科技創新解答人類發展難題，所開發的這兩項技術都將對人類提供巨大貢獻，更是應對許多全球性挑戰的有力武器。

皮米級電子晶片專利

由於世界各國都急迫性的需要晶片來提升國家競爭力，例如現在普遍的缺乏車用晶片，而車用晶片更決定了未來自動化汽車的優劣，相信我們的皮米級晶片會吸引您們的合作，歡迎有興趣的廠家投資我司研發經費與未來訂單，就像當年光刻機大廠ASML獲得來自台積電跟三星的經費挹注，之後也幫助了他們成了晶片製造業的領導廠商，相信在方可成博士的領導下，能組成世界一流的研發團隊，打造奈米/皮米等級的積體電路晶片，期待我們的誠意能換來一紙合理且公平的合約，有興趣的廠家請儘速與我們聯繫！