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恭賀【皮米／奈米級線路圖案的製備方法】美國發明專利核准通過!（閱讀更多...)
2024-02-22 15:44 恭賀【皮米／奈米級線路圖案的製備方法】美國發明專利核准通過!     創辦人方可成博士新發明【皮米／奈米級線路圖的製備方法】美國發明專利核准（美國發明專利號: US 11953828 ）。本專利...
恭賀 朗色林科技榮獲第二十二屆台灣品質保證金像獎(閱讀更多....)
2023-11-19 17:54 恭賀 朗色林科技榮獲 第二十二屆台灣品質保證金像獎            
朗色林科技榮獲第二十二屆金峰獎之「傑出創業楷模」與「傑出創新研發」 雙項大獎 (閱讀更多....)
2023-09-10 15:51   朗色林科技榮獲第二十二屆金峰獎之 「傑出創業楷模」與「傑出創新研發」雙項大獎            
【皮米／奈米級線路圖案的製備方法】之競爭優勢與合作方式說明 (閱讀更多....)
2023-08-24 12:11     【皮米／奈米級線路圖案的製備方法】之競爭優勢與合作方式說明   本公司創辦人-方可成博士突破現有半導體晶片的奈米製程，發明奈米／皮米等級晶片的製程，此發明的偉大之處在於無需光刻機及...